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发表于 2026-5-26 09:51 来自手机 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
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沙发
发表于 2026-5-26 11:00 | 只看该作者
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板凳
发表于 2026-5-26 11:02 来自手机 | 只看该作者
不明覺厲
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地板
发表于 2026-5-26 12:28 来自手机 | 只看该作者
这图有意思,第一个折点2025-2026,可能对应duvi+这个技术,2030的折点估计对应euv加折叠了。很有可能这是部分高制程技术,比如高精度测量,深蚀刻这种已经突破的技术下放的结果
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51
发表于 2026-5-26 12:34 | 只看该作者
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61
发表于 2026-5-27 11:22 | 只看该作者

26年4月份半导体设备展,1:90深刻蚀机,已有。长鑫,长江存储大扩建的基础吧

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71
发表于 2026-5-27 12:30 | 只看该作者

以后卖IP的也得象卖手机的一样了,我这个IP有平面的,有两折叠的,有三折叠的,你要哪个?

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81
发表于 2026-5-27 12:55 | 只看该作者

全局最优解比局部最优解,更优且代价低。

本帖最后由 isaac 于 2026-5-27 13:01 编辑

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91
发表于 2026-5-27 13:31 | 只看该作者
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101
发表于 2026-5-27 23:04 | 只看该作者

新凯来EUV目标节点2030年,乐观的话明年大致可以看到原型样机发布。

cain 发表于 2026-5-26 12:28
这图有意思,第一个折点2025-2026,可能对应duvi+这个技术,2030的折点估计对应euv加折叠了。很有可能这是部分高制程技术,比如高精度测量,深蚀刻这种已经突破的技术下放的结果

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111
发表于 2026-5-28 01:30 | 只看该作者

代价不一定低

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121
发表于 2026-5-28 10:06 | 只看该作者
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131
发表于 2026-5-28 10:16 | 只看该作者

先要有原型机做工艺和周围配套设备材料研发。类似ASML 3300B,3400C的关系,EUV量产开始是用3400C。

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